Ir/Ta-Titananode für galvanisch abgeschiedene Kupferfolie

Was ist eine Ir/Ta-Titananode für galvanisch abgeschiedene Kupferfolie?

Eine Ir/Ta-Titananode ist ein Elektrodentyp, der in elektrochemischen Anwendungen verwendet wird, bei denen eine hohe Korrosions- und Oxidationsbeständigkeit erforderlich ist. Die Anode besteht aus Titan und ist in einem speziellen Beschichtungsverfahren, dem sogenannten thermischen Sprühverfahren, mit einer Schicht aus Iridium (Ir) und Tantal (Ta) beschichtet.

Ir/TaTitananodeBei galvanisch abgeschiedener Kupferfolie handelt es sich um eine Art Elektrode, die im Galvanisierungsprozess zur Herstellung hochwertiger Kupferfolien für Leiterplatten verwendet wird. Die Anode besteht aus Titan, das aufgrund seiner hohen Korrosionsbeständigkeit, geringen Reaktivität und hervorragenden Leitfähigkeit ein ideales Material für Galvanisierungsanwendungen ist.

Während des Galvanisierungsprozesses wird die Titananode in eine Elektrolytlösung getaucht, die Kupferionen enthält. Wenn an die Anode Strom angelegt wird, werden Kupferionen auf der Kathode (einem flachen Kupferblech) abgelagert und bilden eine dünne Schicht Kupferfolie. Die Titananode ist so konzipiert, dass sie den harten Bedingungen des Galvanisierungsprozesses standhält, darunter hohe Temperaturen, ätzende Chemikalien und elektrische Ströme.

Hersteller

Baoji City Changsheng Titanium Co., Ltd. is the earliest professional anode company to enter the Electrodeposited copper foil industry in China. For more than ten years, the coating technology with independent intellectual property rights has been researched and developed and has reached the international advanced level. The prepared electrode has the characteristics of good conductivity, low oxygen evolution potential, fine coating oxide crystal grains (up to nanometer level), long service life (operating life>40000KA h/m2) und andere Eigenschaften.

Titananode für galvanisch abgeschiedene Kupferfolie

Arbeitsbedingungen: H2SO4 Weniger als oder gleich 15% Pb ＜ 50ppm F- ＜ 10ppm

Cl-<60ppm gel content <10ppm

Temperatur: T < 60 Grad

Stromdichte: I<7000A / m2

Anodengröße: 7 * 280 * 1375 (Satz mit 16 Stück)

Lebensdaueranforderung: 40000 KAH (8 Monate Dauerbetrieb sind 5760 Stunden)

Elektrochemischer Leistungs- und Lebensdauertest (Referenzstandard HG / T2471-2007 Q / CLTN-2012)

Name Verstärkter Gewichtsverlust mg Sauerstoffentwicklungspotential V Prüfbedingung Stromdichte A / m2 Lebensdauer h

Titanbasiertes Iridium-Tantal Kleiner oder gleich 10 ＜ 1,43 15% H2SO4 40000 ＞ 1440

Hintergrund und Einführung zur Produktverwendung

Galvanisch abgeschiedene Kupferfolie ist eine Kupferfolie, die durch galvanisches Abscheiden von Kupfersulfat hergestellt wird. Aufgrund der strengen Qualitäts- und Leistungsanforderungen des Produkts müssen die Bedingungen für die galvanische Abscheidung bei der Herstellung streng stabil sein und die Anode muss einen hohen Strom führen. Die mit Edelmetall beschichtete Titanelektrode hat einen stabilen Polabstand und einen geringeren Energieverbrauch. Gleichzeitig hat die Titananode den Vorteil, dass sie nach dem erneuten Beschichten wiederholt verwendet werden kann. Nach Ablauf der Lebensdauer der Titananode kann sie durch erneutes Beschichten wiederverwendet werden. Auf diese Weise werden sowohl der Energieverbrauch als auch die Anodenkosten erheblich gespart. Aufgrund der oben genannten Vorteile werden beschichtete Titananoden häufig im Herstellungsprozess von galvanisch abgeschiedener Kupferfolie verwendet, von der Bildung der Kupferfolie am Anfang bis zur Nachbehandlung der Kupferfolie.

Unter der Bedingung der Stromdichte<8000A / m2, the working life of the anode is generally about 8-10 months.

Titananoden für galvanisch abgeschiedene Kupferfolie

Es wird für die Herstellung hochwertiger Kupferfolien verwendet, die in verschiedenen elektronischen Anwendungen zum Einsatz kommen, darunter Leiterplatten, elektronische Geräte und integrierte Schaltkreise. Der Galvanisierungsprozess mit Titananoden ermöglicht die Herstellung von Kupferfolien mit gleichmäßiger Dicke, Gleichmäßigkeit und hervorragenden Hafteigenschaften, wodurch sie für die Hochgeschwindigkeitsverarbeitung und den Feinliniendruck geeignet sind.

Neben ihrer hohen Korrosionsbeständigkeit und Leitfähigkeit bieten Iridium-beschichtete Titananoden für galvanisch abgeschiedene Kupferfolien noch weitere Vorteile gegenüber herkömmlichen Anodenmaterialien wie Graphit und Blei. Titananoden sind haltbarer und haben eine längere Lebensdauer, was zu geringeren Wartungskosten und einer geringeren Umweltbelastung führt. Sie sind auch hinsichtlich der Stromdichte effizienter, was zu schnelleren Beschichtungsgeschwindigkeiten und verbesserter Produktivität führt.

Insgesamt handelt es sich bei galvanisch abgeschiedenen Kupferfolien um eine wesentliche Komponente bei der Herstellung hochwertiger Kupferfolien für verschiedene elektronische Anwendungen, und ihre einzigartigen Eigenschaften machen sie zu einer idealen Wahl für den Galvanisierungsprozess.

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