Metall-Sputtering-Ziel

Ti50%Al50% Sputtertarget, TiAl-Legierungs-Sputtertarget, Titan-Aluminium-Legierungstarget bei:50%
Purity:>99.8% (2N8)
Körnung:<100um
Prozess: HIP
Form: Rechteckiges Ziel, rundes...

Chromtarget, Cr-Target, Chrom-Sputtertarget
Reinheit:99,5 %-99,99 %
Rechteckiges Ziel, rundes Ziel, rotierendes Ziel
Formgebungsverfahren: Heißisostatisches Pressen...

Zirkoniumtargets, Zirkonium-Planartargets, Zr-Sputtertargets
Purity:>99.5%
Abmessungen:
12x131x1214mm laut Zeichnung
12x132x1701mm laut Zeichnung
18 x 164 x 1810 mm gemäß...

Titan-Rotationstarget für Magnetronsputtern
Fortschritt: Vakuumschmelzen, CNC, Extrudiert
Reinheit: 99,9 %, 99,95 %, 99,99 %
Form: Dreh-, Zylinder-, Rohrform
Größe:...

Chromtargets; Chrom-Sputtertargets
Material: Chrom Cr
Reinheit: Von 99,9 % (3N) - 99,99 % (4N) Größe: Durchmesser 100 mm × 40 mm, Durchmesser 100 mm × 45 mm, Durchmesser 100 mm × 50 mm,...

Titantarget, Titan-Sputtertarget, Titan-Rundtarget, TitanscheibeGröße: Durchmesser 100 mm × 40 mm Durchmesser 100 mm × 45 mm Durchmesser 100 mm × 50 mm Durchmesser 80 mm × 40 mm Durchmesser 60 mm...

Keramik-Sputtertarget, Titanoxid-Sputtertarget, TiO2-Sputtertarget
Rund: Außendurchmesser 25,4 mm, Außendurchmesser 50 mm, Außendurchmesser 50,8 mm, Außendurchmesser 60 mm, Außendurchmesser...

Titan-Sputtertarget, Titan-Rundtarget, Titan-Plattentarget, Titan-RotationstargetReinheit: 99,7 %-99,995 %(3N-4N5)Korngröße:<100um Application: 1.architectural glass,car using glass,graphic...

Nickel-Chrom-Sputtertargets (NiCr 80:20 Gew.-%), NiCr (80:20 Gew.-%), Ni80Cr20, NiCr8020, NiCr80/20 Gew.-%
Reinheit: 99,5 Prozent (2N5)
Abmessung (mm): Dicke 16 (plus /-0,1) x Breite 170...

Metalle Mehrbogenziele, Metall- und Legierungs-Rundziele
Material: Titantarget, TiAl-Legierungstarget, Mo, Zr, Ta, Nb, NbZr, Ni, Si, Sn, NiGr (8:2)
Reinheit: 2N5 bis...

Sputtertargets aus Titanlegierungen, runde Titantargets, Targets aus Titanlegierungen
Material:purity titanium >99,4 %, TiAl-, TiZr-, TiNb-, TiHf-, TiAlSi-, TiTa-, TiCu-Ziele
Prozess:...