Sputtertargets aus Titanlegierungen
Sputtertargets aus Titanlegierungen, runde Titantargets, Targets aus Titanlegierungen
Material:purity titanium >99,4 %, TiAl-, TiZr-, TiNb-, TiHf-, TiAlSi-, TiTa-, TiCu-Ziele
Prozess: geschmolzen, geschmiedet und CNC-bearbeitet
Abmessungen: Durchmesser 60/65/95/100 x 30/32/40/45 mm, Dicke 3-50 mm
Mindestbestellmenge: 5 Stück
Produkteinführung
Spezifikation
Reinheit:Von 9 9,5 % (2N5) bis - 99,995 % (4N5)
Qualität: Gr1, Gr2, hohe Reinheit 99,99 % Ti
Legierung: TiAl, TiZr, TiNb, TiHf, TiTa, TiAlSi, TiCu
Form und Größe :
Artikelname | Grad | Form | Reinheit |
Reines Titanziel | GR1 | Rundes Ziel, Plattenziel, Rohrziel | Im Bereich von 99,5 % (2N5) - 99,995 % (4N5) |
GR2 | |||
4NTi | |||
Ziel aus Titanlegierung | TiNb (GR36) | 50:50at%,80:20at%,70:30at%,60:40at%, | |
TiZr-Legierungstarget | |||
TiAl-Legierungstarget | |||
W-Ti-Ziel |
Anwendungen
Hauptsächlich verwendet in der Verzinkung, Galvanisierung, der Vakuumbeschichtung Dekoration und der Funktion Beschichtung Industrie und andere Beschichtung
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