Titandioxid TiO2 Keramik Sputtertarget
Keramik-Sputtertarget, Titanoxid-Sputtertarget, TiO2-Sputtertarget
Rund: Außendurchmesser 25,4 mm, Außendurchmesser 50 mm, Außendurchmesser 50,8 mm, Außendurchmesser 60 mm, Außendurchmesser 76,2 mm, Außendurchmesser 80 mm, Außendurchmesser 101,6 mm, Außendurchmesser 100 mm oder nach Kundenwunsch
Platte: Dicke 3 mm, 4 mm, 5 mm, 6 mm, 6,35 mm, kann auch Kupfer-Backplane binden
Dichte: Größer oder gleich 4,15g/cm3
Spezifischer Widerstand:<10mΩ.cm
Produkteinführung
Titandioxid (TIO2)-Keramik-Sputtertargets sind spezielle Materialien, die im Dünnschichtabscheidungsprozess verwendet werden. Dabei handelt es sich um eine gängige Methode, um verschiedene Oberflächen mit einer dünnen Materialschicht zu beschichten. Dieses Verfahren wird in der Elektronikindustrie häufig zur Herstellung von Mikroelektronikgeräten, Flachbildschirmen, Solarzellen und anderen Dünnschichtanwendungen eingesetzt.
Ein Sputtertarget ist ein Material, das mit hochenergetischen Ionen bombardiert wird, um einen Partikelstrom zu erzeugen, der dann auf einem Substrat abgelagert wird, wodurch ein dünner Film entsteht. Die Eigenschaften des Sputtertargets sind entscheidend für die Qualität und die Eigenschaften des resultierenden Films.
Das 99,99 % TiO2-Titandioxid-Keramik-Sputtertarget ist ein hochreines Material, das zu 99,99 % aus Titandioxid besteht. Dieser hohe Reinheitsgrad ist entscheidend, um sicherzustellen, dass der abgeschiedene Film eine konsistente Zusammensetzung aufweist, was für die gewünschten Eigenschaften des Films entscheidend ist.
Das Titandioxid-Sputtertarget wird üblicherweise in einem Verfahren namens Heißpressen hergestellt, bei dem das Titandioxidpulver erhitzt und zu einem festen Block gepresst wird. Dieses Verfahren stellt sicher, dass das Material eine gleichmäßige Dichte und eine glatte Oberfläche aufweist, was für eine gleichmäßige und qualitativ hochwertige Dünnschichtabscheidung wichtig ist.
Spezifikation
99,99 % TiO2-Ziel
Rund: Außendurchmesser 25,4 mm, Außendurchmesser 50 mm, Außendurchmesser 50,8 mm, Außendurchmesser 60 mm, Außendurchmesser 76,2 mm, Außendurchmesser 80 mm, Außendurchmesser 101,6 mm, Außendurchmesser 100 mm oder nach Kundenwunsch
Platte: Dicke 3 mm, 4 mm, 5 mm, 6 mm, 6,35 mm, kann auch Kupfer-Backplane binden
| Qualitätskontrolle der Zutaten | |
| Analyse der Rohstoffzusammensetzung: | Durch Erkennung und Analyse des Gehalts an Verunreinigungselementen durch ICP-Geräte wird sichergestellt, dass die Reinheit dem Standard entspricht. Durch XRD wird überprüft, ob die Pulverkomponenten gleich sind. |
| Erkennung der Erscheinungsgröße: | Messen Sie die Produktabmessungen mit Mikrometern und Präzisionsmessschiebern, um die Übereinstimmung mit den Zeichnungen sicherzustellen. Messen Sie die Oberflächenbeschaffenheit und Sauberkeit der Produkte mit einem Oberflächenreinheitsmessgerät. |
Fehlererkennung: | Erkennen Sie das hintere Ziel mithilfe von Fehlererkennungsgeräten, um sicherzustellen, dass die Bindeschicht gleichmäßig ist und die Binderate hoch ist |
Anwendungsfall
Keramik-Sputtertargets aus Titandioxid (TiO2) finden in der Elektronik-, Energie- und Biomedizinbranche breite Anwendung. Hier sind einige Beispiele für die Verwendung von Titandioxid-Sputtertargets:
1. Solarzellen: Wird häufig bei der Herstellung von Solarzellen verwendet. Dünne TiO2-Filme, die auf einem Substrat aufgebracht werden, dienen als wichtige Komponente in Farbstoffsolarzellen (DSSC) und Perowskit-Solarzellen (PSC). Diese dünnen Filme tragen dazu bei, die Lichtabsorption zu verbessern und die Effizienz der Solarzelle zu steigern.
2. Optik: Es wird auch bei der Herstellung optischer Beschichtungen für Linsen, Spiegel und Filter verwendet. Dünne TiO2-Filme werden auf die Oberfläche optischer Elemente aufgebracht, um deren Leistung zu verbessern und Blendeffekte zu reduzieren.
3. Mikroelektronik: Wird bei der Herstellung mikroelektronischer Geräte wie Transistoren, Kondensatoren und integrierten Schaltkreisen verwendet. Dünne TiO2-Filme werden auf das Substrat aufgebracht, um die Leistung und Haltbarkeit dieser Geräte zu verbessern.
4. Biomedizinische Anwendungen: Es wird in biomedizinischen Anwendungen wie Arzneimittelverabreichung und Biosensorik eingesetzt. Dünne TiO2-Filme werden auf Substrate aufgebracht, um Arzneimittelverabreichungsvehikel und Biosensoren herzustellen, die zur Diagnose und Behandlung verschiedener Krankheiten eingesetzt werden können.
5. Energiespeicherung: Wird auch in Energiespeicheranwendungen wie Lithium-Ionen-Batterien verwendet. Dünne TiO2-Filme werden auf die Elektrodenoberfläche aufgebracht, um die Leistung und Lebensdauer der Batterie zu verbessern.
Bei all diesen Anwendungen sind die hohe Reinheit und Konsistenz des Titandioxid-Keramik-Sputtertargets entscheidend, um die gewünschten Eigenschaften des Dünnfilms zu erreichen. Die Qualität des Sputtertargets spielt eine entscheidende Rolle für die Qualität und Leistung des Endprodukts.
Beliebte label: TIO2-Keramik, Titandioxid-Keramik, Titandioxid-Sputtertarget
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