Multi-Arc-Chrom-Cr-Kathodentarget
Chrom-Targets;Chrom-Sputtertargets
Material: Chrom Cr
Reinheit: Im Bereich von 99,9 % (3N) - 99.99 % (4N) Größe: Durchmesser 100 mm × 40 mm; Durchmesser 100 mm × 45 mm; Durchmesser 100 mm × 50 mm; Durchmesser 80 mm × 40 mm; Durchmesser 60 mm × 30 mm oder kundenspezifisch
Verarbeitungstechnologie: Schmelze und HIP
Produkteinführung
Das Multi-Arc-Kathodentarget aus Chrom und Cr ist eine Art Dünnfilm-Abscheidungstarget, das häufig in PVD-Prozessen (Physical Vapour Deposition) verwendet wird. Es besteht aus hochreinem Chrom (Cr) und wird zum Aufbringen dünner Chromfilme auf ein Substrat verwendet.
Der Begriff „Multi-arc“ bezieht sich auf die Ablagerungsmethode, die bei diesem Zieltyp verwendet wird. Bei einem Multi-Arc-PVD-Prozess wird ein elektrischer Lichtbogen zwischen dem Kathodentarget und einer Anode gezündet. Dadurch werden Atome des Kathodenmaterials aus Chromtargets herausgeschleudert und auf dem Substrat abgeschieden. Mehrere Lichtbögen werden verwendet, um die Abscheidungsrate zu erhöhen und die Filmqualität zu verbessern.
Chrom ist aufgrund seiner hohen Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit ein beliebtes Material für PVD-Beschichtungen. Es wird in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, darunter Automobilteile, Luft- und Raumfahrtkomponenten und dekorative Beschichtungen.
Chrom-Sputtertargets werden in der Regel mithilfe eines Pulvermetallurgieverfahrens hergestellt, bei dem hochreines Chrompulver zu einer festen Targetform verdichtet wird. Chrom-Targets werden dann bei hohen Temperaturen gesintert, um die gewünschte Dichte und Mikrostruktur zu erreichen.
Insgesamt ist es eine Schlüsselkomponente in PVD-Verfahren zur Abscheidung von Chrombeschichtungen, die aufgrund ihrer hohen Leistung und Ästhetik weit verbreitet sind.
Spezifikation:
Material: Reines Cr 99,9 %–99,99 %, NiCr-Legierung
Reinheit: Im Bereich von 99,9 % (3N) bis - 99.99 % (4N)
Standard: ASTM, DIN, JIS, ASME
Größe: Durchmesser 100 x 40 mm, 100 x 45 mm, 98 x 40 mm, 95 x 40 mm, 80 x 50 mm, 80 x 45 mm, 80 x 40 mm
Mindestbestellmenge: 5 Stück
Besonderheit:
Chromtargets werden durch ein fortschrittliches Heißisostatisches Pressverfahren (HIP) hergestellt. Zu den Produkten gehören rechteckige Targets, Bogentargets, ringförmige Targets und integral geformte Rohrtargets mit großem Seitenverhältnis, mit kontrollierbarer Reinheit und Dichte, feinen und gleichmäßigen Körnern, langer Lebensdauer usw.
Parameter:
| Chromziele | Produktleistung |
| Reinheit % | 99.9%-99.99% |
| Dichte g/cm3 | >7.12 |
| Korngröße um | <100 |
| Gesamtgehalt an metallischen Verunreinigungen PPM | <5000 |
| Wärmeleitfähigkeit Wm/k | 600-100 |
| Wärmeausdehnungskoeffizient | 8x10-6 |
Andere Materialien für Sputtertargets
Hochreines Metall-Sputtertarget | ||
Aluminium | Pellet, rund, planar, drehbares Ziel | 3N~6N |
Chronium | 2N~3N5 | |
Silber | 4N~5N | |
Platin | 4N~5N | |
Gold | 4N~5N | |
Nickel | 4N~5N | |
Zinn | 4N~6N | |
Mangan | 4N~5N | |
Kobalt | 3N~4N | |
Eisen | 3N~4N | |
Zink | 4N~5N | |
Zirkonium | 2N2~4N | |
Titan | 4N~5N | |
Indium | 4N~5N | |
Germanium | 4N~6N | |
Silizium | 4N~6N | |
Kupfer | 4N~5N | |
Molybdän | 3N~4N | |
Niob | 3N5 | |
Tatalum | 4N5 | |
Wolfram | 3N5 | |
Hafnium | 3N | |
Vanadium | 2N5~3N | |
Das Beschichtungsziel ist eine Sputterquelle, die durch Magnetronsputtern, Multi-Arc-Ionenplattieren und andere Arten von Beschichtungssystemen unter geeigneten Prozessbedingungen verschiedene funktionelle Dünnfilme auf dem Substrat bildet. Einfach ausgedrückt ist das Zielmaterial das Zielmaterial, das von geladenen Teilchen mit hoher-Geschwindigkeit bombardiert wird. Es wird in Hochenergie-Laserwaffen eingesetzt. Wenn Laser mit unterschiedlichen Leistungsdichten, unterschiedlichen Ausgangswellenformen und unterschiedlichen Wellenlängen mit unterschiedlichen Zielen interagieren, kommt es zu unterschiedlichen Tötungen und Zerstörungen. Wirkung. Beispiel: Bei der Verdunstungsmagnetron-Sputterbeschichtung handelt es sich um die Erwärmung einer Verdampfungsbeschichtung, eines Aluminiumfilms usw. Durch Ersetzen unterschiedlicher Targetmaterialien (z. B. Aluminium-, Kupfer-, Edelstahl-, Titan-, Nickeltargets usw.) können Sie unterschiedliche Filmsysteme erhalten (z. B. einen super-harten, verschleiß-beständigen, korrosionsbeständigen Legierungsfilm usw.).
Anwendungsfall
Dies wird in verschiedenen Branchen häufig zur Abscheidung dünner Chromfilme auf Substraten eingesetzt. Hier ein Beispiel für einen Anwendungsfall:
Eine der Hauptanwendungen von Chromtargets ist die Automobilindustrie zum Aufbringen verschleißfester Beschichtungen auf Motorkomponenten wie Kolbenringen, Lagern und Ventilschäften. Diese Beschichtungen verbessern die Haltbarkeit und Leistung der Komponenten und reduzieren Reibung und Verschleiß.
Beispielsweise hat ein führender Automobilzulieferer früher eine Hartchrombeschichtung auf Kolbenringe aufgebracht. Chrom-Targets bestanden aus hochreinem Chrom und hatten einen Durchmesser von 100 mm und eine Dicke von 3 mm. Der PVD-Prozess nutzte ein Multi-Arc-Abscheidungssystem mit einer Argongasatmosphäre und einer Abscheidungsrate von 0,2–0,4 μm/min.
Die resultierende Chrombeschichtung hatte eine Dicke von 3–5 μm und zeigte eine hervorragende Haftung, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit. Die beschichteten Kolbenringe zeigten im Vergleich zu unbeschichteten Ringen eine deutliche Verbesserung der Haltbarkeit und Leistung.
Dieser Anwendungsfall veranschaulicht die Wirksamkeit von Chrom-Sputtertargets bei der Abscheidung hochwertiger Chrombeschichtungen für Automobilanwendungen. Der Einsatz von PVD-Beschichtungen ist eine wichtige Möglichkeit, die Leistung und Zuverlässigkeit von Automobilkomponenten zu verbessern, und Chrom-Cr-Kathodentargets mit mehreren Lichtbögen spielen in diesem Prozess eine entscheidende Rolle. Als Lieferant von Chrom-Targets können wir auch Chrom-Pellet-Targets, runde Targets, planare Targets und drehbare Targets liefern.
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