Multi Arc Chrom Cr Kathodentarget
Chromtargets; Chrom-Sputtertargets
Material: Chrom Cr
Reinheit: Von 99,9 % (3N) - 99,99 % (4N) Größe: Durchmesser 100 mm × 40 mm, Durchmesser 100 mm × 45 mm, Durchmesser 100 mm × 50 mm, Durchmesser 80 mm × 40 mm, Durchmesser 60 mm × 30 mm oder individuell angepasst
Verarbeitungstechnologie: Schmelze und HIP
Produkteinführung
Das Multi Arc Chrome Cr-Kathodentarget ist ein Dünnschicht-Abscheidungstarget, das häufig bei physikalischen Gasphasenabscheidungsprozessen (PVD) verwendet wird. Es besteht aus hochreinem Chrom (Cr) und wird zum Abscheiden dünner Chromschichten auf einem Substrat verwendet.
Der Begriff „Multi-Arc“ bezieht sich auf die Abscheidungsmethode, die bei dieser Art von Target verwendet wird. Bei einem Multi-Arc-PVD-Prozess wird zwischen dem Kathodentarget und einer Anode ein Lichtbogen erzeugt. Dadurch werden Atome des Kathodenmaterials aus Chromtargets ausgestoßen und auf dem Substrat abgelagert. Mehrere Lichtbögen werden verwendet, um die Abscheidungsrate zu erhöhen und die Filmqualität zu verbessern.
Chrom ist aufgrund seiner hohen Härte, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit ein beliebtes Material für PVD-Beschichtungen. Es wird in einer Vielzahl von Anwendungen eingesetzt, darunter Automobilteile, Luft- und Raumfahrtkomponenten und dekorative Beschichtungen.
Chrom-Sputtertargets werden üblicherweise in einem pulvermetallurgischen Verfahren hergestellt, bei dem hochreines Chrompulver zu einer festen Targetform verdichtet wird. Chromtargets werden dann bei hohen Temperaturen gesintert, um die gewünschte Dichte und Mikrostruktur zu erreichen.
Insgesamt handelt es sich um eine Schlüsselkomponente in PVD-Prozessen zum Aufbringen von Chrombeschichtungen, die aufgrund ihrer hohen Leistungsfähigkeit und Ästhetik weit verbreitet sind.
Spezifikation:
●Material: Reines Cr 99,9 %-99,99 %, NiCr-Legierung
●Reinheit: Von 99,9 % (3N) - 99,99 % (4N)
●Standard: ASTM, DIN, JIS, ASME
●Größe: Durchmesser 100 x 40 mm, 100 x 45 mm, 98 x 40 mm, 95 x 40 mm, 80 x 50 mm, 80 x 45 mm, 80 x 40 mm
● Mindestbestellmenge: 5 Stück
Besonderheit:
Chromtargets werden durch ein fortschrittliches heißisostatisches Pressverfahren (HIP) hergestellt. Zu den Produkten gehören rechteckige Targets, Bogentargets, ringförmige Targets und integral geformte Rohrtargets mit großem Seitenverhältnis, mit kontrollierbarer Reinheit und Dichte, feinen und gleichmäßigen Körnern, langer Lebensdauer usw.
Parameter:
| Chromziele | Produktleistung |
| Reinheit % | 99.9%-99.99% |
| Dichte g/cm3 | >7.12 |
| Korngröße um | <100 |
| Gesamtgehalt an metallischen Verunreinigungen PPM | <5000 |
| Wärmeleitfähigkeit Wm/k | 600-100 |
| Der Wärmeausdehnungskoeffizient | 8x10-6 |
Andere Materialien für Sputtertargets
Hochreines Metall-Sputtertarget | ||
Aluminium | Pellet, rund, plan, drehbares Ziel | 3N~6N |
Chronium | 2N~3N5 | |
Silber | 4N~5N | |
Platin | 4N~5N | |
Gold | 4N~5N | |
Nickel | 4N~5N | |
Zinn | 4N~6N | |
Mangan | 4N~5N | |
Kobalt | 3N~4N | |
Eisen | 3N~4N | |
Zink | 4N~5N | |
Zirkonium | 2N2~4N | |
Titan | 4N~5N | |
Indium | 4N~5N | |
Germanium | 4N~6N | |
Silizium | 4N~6N | |
Kupfer | 4N~5N | |
Molybdän | 3N~4N | |
Niob | 3N5 | |
Tatalum | 4N5 | |
Wolfram | 3N5 | |
Hafnium | 3N | |
Vanadium | 2N5~3N | |
Das Beschichtungsziel ist eine Sputterquelle, die unter geeigneten Prozessbedingungen durch Magnetronsputtern, Mehrfachbogen-Ionenplattierung und andere Arten von Beschichtungssystemen verschiedene funktionale Dünnfilme auf dem Substrat bildet. Einfach ausgedrückt ist das Zielmaterial das Zielmaterial, das mit geladenen Teilchen mit hoher Geschwindigkeit bombardiert wird. Es wird in Hochenergie-Laserwaffen verwendet. Wenn Laser mit unterschiedlicher Leistungsdichte, unterschiedlichen Ausgangswellenformen und unterschiedlichen Wellenlängen mit unterschiedlichen Zielen interagieren, treten unterschiedliche Tötungs- und Zerstörungseffekte auf. Beispiel: Verdampfungs-Magnetronsputtern-Beschichtung ist eine Heizverdampfungsbeschichtung, ein Aluminiumfilm usw. Durch Ersetzen verschiedener Zielmaterialien (wie Aluminium-, Kupfer-, Edelstahl-, Titan-, Nickelziele usw.) können Sie unterschiedliche Filmsysteme erhalten (wie superharte, verschleißfeste, korrosionsbeständige Legierungsfilme usw.).
Anwendungsfall
Dieses Verfahren wird in verschiedenen Industriezweigen häufig zum Aufbringen dünner Chromschichten auf Substrate verwendet. Hier ist ein Anwendungsbeispiel:
Eine der Hauptanwendungen von Chromtargets ist die Automobilindustrie zum Aufbringen verschleißfester Beschichtungen auf Motorkomponenten wie Kolbenringe, Lager und Ventilschäfte. Diese Beschichtungen verbessern die Haltbarkeit und Leistung der Komponenten und verringern Reibung und Verschleiß.
Ein führender Automobilzulieferer beispielsweise hat früher eine Hartchrombeschichtung auf Kolbenringe aufgebracht. Die Chromtargets bestanden aus hochreinem Chrom und hatten einen Durchmesser von 1,40 mm und eine Dicke von 3 mm. Der PVD-Prozess verwendete ein Mehrlichtbogen-Abscheidungssystem mit einer Argongasatmosphäre und einer Abscheidungsrate von 0,5 μm/min.
Die resultierende Chrombeschichtung hatte eine Dicke von 3-5 μm und wies eine ausgezeichnete Haftung, Verschleißfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit auf. Die beschichteten Kolbenringe zeigten im Vergleich zu unbeschichteten Ringen eine deutlich verbesserte Haltbarkeit und Leistung.
Dieser Anwendungsfall veranschaulicht die Wirksamkeit von Chrom-Sputtertargets beim Auftragen hochwertiger Chrombeschichtungen für Automobilanwendungen. Die Verwendung von PVD-Beschichtungen ist ein wichtiger Weg, um die Leistung und Zuverlässigkeit von Automobilkomponenten zu verbessern, und Mehrbogen-Chrom-Cr-Kathodentargets spielen in diesem Prozess eine entscheidende Rolle. Als Lieferant von Chromtargets können wir auch Chrompellettargets, Rundtargets, Planartargets und drehbare Targets liefern.
Beliebte label: Chromtargets; Chrom-Sputtertargets; Chromtargetlieferant
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